Highlights
The Method for the Determination of Thermal Diffusivity in the Thickness Range of Nanometer
Time Domain Thermoreflectance Methods
The Method for the Determination of Thermal Diffusivity in the Thickness Range of Nanometer
With the significant progress in the design of electronic devices and the associated need for an efficient thermal management, accurate thermal diffusivity / thermal conductivity measurements in the nanometer range are more than ever crucial.
The National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Japan, already responded to industrial requirements with the development of a “pulsed light heating ThermoreflectanceThermoreflectance ist eine Methode zur Bestimmung der Temperaturleitfähigkeit und Wärmeleitfähigkeit von Proben mit Dicken im Nano- und Mikrometer-Bereich.thermoreflectance method” in the early 90’s. PicoTherm Corporation was established in 2008 with the launch of a nano-second ThermoreflectanceThermoreflectance ist eine Methode zur Bestimmung der Temperaturleitfähigkeit und Wärmeleitfähigkeit von Proben mit Dicken im Nano- und Mikrometer-Bereich.thermoreflectance apparatus “NanoTR” and a pico-second thermoreflectance apparatus “PicoTR”, which allows for absolute measurements of the thermal diffusivity of thin films in a thickness range of several 10 μm down into the nanometer range.
In October 2020, PicoTherm joined the NETZSCH Group as a subsidiary of NETZSCH Japan. In combination with our LFA systems, NETZSCH can now offer the solution for thin films in the nanometer range up to bulk materials in the range of mm.
With the significant progress in the design of electronic devices and the associated need for an efficient thermal management, accurate thermal diffusivity / thermal conductivity measurements in the nanometer range are more than ever crucial.
The National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Japan, already responded to industrial requirements with the development of a “pulsed light heating thermoreflectance method” in the early 90’s. PicoTherm Corporation was established in 2008 with the launch of a nano-second thermoreflectance apparatus “NanoTR” and a pico-second thermoreflectance apparatus “PicoTR”, which allows for absolute measurements of the thermal diffusivity of thin films in a thickness range of several 10 μm down into the nanometer range.
Methode
Time Domain Thermoreflectance Methods – The Laser Flash Methode for thin films
Mit der PicoTR lassen sich Laserpulse (Pump-Laser) mit einer Pulsbreite von 0,5 ps mit einer Zeitperiode von 50 ns auf die Probe aufbringen. Die Temperaturansprechzeit wird ebenfalls mittels Probe-Laser detektiert.
PicoTR erlaubt dem Anwender ein einfaches Umschalten zwischen RT- und FF-Modus.
PicoTR stimmt mit den japanischen Industriestandards JIS R 1689 und JIS R 1690 überein.
Specifications
PicoTR | ||
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Pump Laser | Pulsbreite Wellenlänge Strahlendurchmesser | 0.5 ps 1550 nm 45 μm |
Probe Laser | Pulsbreite Wellenlänge Strahlendurchmesser | 0.5 ps 775 nm 25 μm |
Messwerte | Temperaturleitfähigkeit und Wärmeeindringkoeffizienten, Wärmewiderstand von Zwischenschichten | |
Probenschichtdicke (RF-Methode) | Harz Keramik Metall | 10 nm ... 100 nm 10 nm ... 300 nm 100 nm ... 900 nm |
Probenschichtdicke (FF-Methode) | Dicker als 100 nm | |
Substrate | Material Größe Dicke | Lichtundurchlässig/transparent 10 ... 20 mm quadratisch 1 mm max. |
Temperaturleitfähigkeit | Reichweite | 0.01 ... 1000 mm²/s |
Genauigkeit | ± 6,2 % mit einer Messzeit von 40 min, für CRM 5808A im RF-Modus, 400 nm Dicke | |
Reproduzierbarkeit | ± 5% | |
Software | Berechnung der thermischen Eigenschaften, Mehrschichtanalyse, Datenbank |
PicoTR | ||
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Pump Laser | Pulse width Wavelength Beam diameter | 0.5 ps 1550 nm 45 μm |
Sample Laser | Pulse width Wavelength Beam diameter | 0.5 ps 775 nm 25 μm |
Measured values | Thermal diffusivity and heat penetration coefficients, thermal resistance of intermediate layers | |
Sample layer thickness (RF method) | Resin Ceramic Metal | 10 nm ... 100 nm 10 nm ... 300 nm 100 nm ... 900 nm |
Sample layer thickness (FF method) | Thicker than 100 nm | |
Substrates | Material Size Thickness | Opaque/transparent 10 ... 20 mm square 1 mm max. |
Thermal diffusivity | Range | 0.01 ... 1000 mm²/s |
Accuracy | ± 6.2 % with a measuring time of 40 min, for CRM 5808A in RF mode, 400 nm thickness | |
Reproducibility | ± 5% | |
Software | Calculation of thermal properties, multilayer analysis, database |
Software
In-situ-Display und Analysieren von 100.000 Schüssen
Die moderne Mess-/Analysesoftware von NanoTR/PicoTR bietet eine anwenderfreundliche Benutzeroberfläche, die die genaue Bestimmung der thermischen Eigenschaften von dünnen Schichten zulässt. Die Fokussierung des Laserstrahls wird über die Software mittels CCD-Kamera eingestellt.
Die NanoTR/PicoTR-Software läuft unter Microsoft Windows.
Der Plot zeigt, dass eine Messkurve in einer Messzeit von 1 μs erhalten werden kann.
Liefert Ergebnisse in nur wenigen Minuten
Verwandte Geräte
- NanoTR
Time Domain Thermoreflectance mittels Pulsed Light Heating
- Pulsbreite 1 ns
- 30 nm ... 20 μm Probendicke
- 0.01 ... 1000 mm²/s Reichweite
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